Patrick Mabire et Pascal Delaunay font le point sur le sujet.
Pourquoi ce projet d’investissement ?
Le secteur Photo Défectivité Gravure connaît des investissements réguliers afin de renouveler le parc machine mais aussi répondre à nos besoins futurs. Dans ce cadre, la réflexion concernant les steppers (équipements d’exposition des plaques laquées à la lumière UV au travers d’un masque) a démarré il y a déjà plusieurs années et vise à remplacer progressivement le parc actuel.
Nous avions plusieurs objectifs : préparer l’avenir en ayant une capabilité 6 et 8 pouces (PICS5), une meilleure résolution (0.35 µm) et pouvoir conserver les laques/solvants/développeurs actuels afin de rester compatible avec les procédés en place et éviter une « trop » longue qualification.
« La réflexion concernant les steppers […] vise à remplacer progressivement le parc actuel. »
Quelles ont été les principales étapes du projet ?
Un projet d’investissement de cette nature prend entre 2 et 3 ans au total.
Une analyse de risque (SWOT) a d’abord été faite sur les potentielles solutions, suivie de la rédaction d’un cahier des charges, puis d’une étude de marché menée auprès de fournisseurs d’équipements potentiels. Plusieurs options techniques ont finalement été étudiées avec le fournisseur Nikon, sachant que nous cherchions à obtenir une résolution d’image plus élevée pour répondre, par exemple, à des projets comme celui du client SieveCorp mais encore plus sur le procédé PICS3 Mosaïc.
Une fois la demande d’investissement validée et la commande passée en mai 2018, le projet d’implantation a démarré en salle avec plusieurs scénarios qui intègrent d’autres évolutions futures, notamment le Polymide, le projet ALTAIR et l’installation d’un 2ème stepper.
La phase de qualification avec le fournisseur a été finalisée après 2 mois de tests.
Nous en sommes maintenant à la phase de qualification produit qui devrait se terminer en février prochain. Pour cette qualification, nous avons choisi un projet hors médical. Cette étape nous permettra d’établir une base d’opérations validées pour les futurs produits.
« Nous en sommes maintenant à la phase de qualification produit qui devrait se terminer en février prochain. »
Quelles formations sont associées à cette mise en place ?
Les nouvelles instructions (IPC) qui seront utilisées par les opérateurs sont finalisées. L’équipe process travaille actuellement sur les stratégies d’alignements des couches successives en intégrant une qualité d’overlay 5x supérieure aux actuels steppers ASML. Enfin, une formation maintenance a été réalisée sur le site par Nikon.
Et la suite dans le secteur Photo Défectivité Gravure ?
Nous avons maintenant un nouveau stepper et bientôt des IVS 200 (microscopes automatiques). Par ailleurs, des groupes froids communs à tout le secteur devraient être installés prochainement. Pour la suite, outre le projet d’un 2ème stepper, une réflexion sur le remplacement des machines AIT1 est en cours.
Le saviez-vous ?
Le mot « Stepper » est le raccourci de l’expression anglaise « Step-and-Repeat Projection Aligner ». Il qualifie les équipements permettant de projeter l’image d’un masque sur une zone bien délimitée de la plaque en silicium (= champ d’exposition) et de répéter cette action afin de couvrir toute la plaque avec le motif souhaité.
Several investments are made in the Lithography / Defectivity / Etch departement, leading to the renewal of the equipment. Three main objectives were planned: preparing the future by adapting the production line for both 6 and 8 inches, improving the resolution (0.35 µm), keeping the current photoresist / solvent / stripper tot be compatible with the currect processes. Two months were necessary to qualify the quipment with the supplier. Now this is the qualification of the product, which could be finished in February.